《 Masalah 》

Dalam proses manufaktur semikonduktor, pre-bake lapisan resist merupakan langkah penting untuk memastikan stabilitas kualitas lapisan. Namun, sumber panas konvensional memiliki kecepatan pemanasan yang lambat, sehingga menurunkan throughput dan berdampak pada efisiensi produksi. Selain itu, ketersediaan ruang untuk pemasangan sumber panas juga menjadi tantangan.

《　⇒Titik Kaizen》

Dengan menggunakan Pemanas garis karbon untuk pre-bake lapisan resist, pemanasan dapat dilakukan secara cepat dan merata. Selain itu, kemampuan pemanasan berkecepatan tinggi meningkatkan throughput, sehingga berkontribusi pada optimalisasi efisiensi produksi. Desain Pemanas garis karbon yang ringkas juga memungkinkan penghematan ruang dan tata letak peralatan yang lebih fleksibel.