Home / Best Applications List / Chemical / No.41 Proses perlakuan panas wafer semikonduktor

No.41 Proses perlakuan panas wafer semikonduktor

No.41 Proses perlakuan panas wafer semikonduktor

《 Masalah 》

Tidak ada yang baik yang bisa memanaskan wafer silikon dalam ruang hampa.

《 ⇒Titik Kaizen》

Dipanaskan dengan pemanas garis halogen.
Waktu siklus dapat dipertahankan karena suhu naik ke suhu maksimum dalam 5 detik.
Hingga saat ini, butuh waktu 30 menit untuk idle, sehingga waktu idle menjadi nol.

Informasi detail pemanas garis halogen
Contoh aplikasi pemanas garis halogen
Hubungi kami